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真空充氮烤箱HE-WDN2-72

發布日期:2024-09-13      點擊:117

一、用途簡介:

    真空充氮烤箱適用于光電、硅晶片、電子芯片、電池、線路板、電子電器、金屬加工、制藥等各行業作無氧真空快速干燥、退火等高溫處理,可充惰性氣體防止產品氧化。深受生產線、實驗室及科研單位喜愛。



二、主要技術指標:

規格型號: HE-WDN2-72 HE- WDN2-64 HE- WDN2-125 HE- WDN2-216 HE- WDN2-512 HE- WDN2-1000

內箱尺寸(cm) 30×30×30 40×40×40 50×50×50 60×60×60 80×80×80 100×100×100

外形尺寸(cm): 70×55×125 70×66×145 78×77×155 90×86×165 115×108×185 136×166×188

總功率: 3.5KW 4.5KW 5.5KW 9.0KW 15.0KW 20.0KW

使用電源: AC 單相 三線 220V 50HZ AC 三相 五線 380V 50HZ

溫度偏差: ±3% ±5% ±8%

真空泵: 4升 8升

溫度范圍(選擇)

 RT+10℃~200

□ RT+10℃~250℃

□ RT+20℃~300℃

真空度范圍: 0-100KPa

控制方式: 按鍵式控制或PLC觸摸屏控制

結構: 一體式結構(內置真空泵)或分體式(外置真空泵)

內箱材質: SUS304#不銹鋼

外箱材質: SECC鋼板高級烤漆處理

充氮氣裝置: 1)氮氣壓力范圍:34Kg左右;

2)流量計:量程為10L/min-100Lmin

3)氣管配置:∮8mm氣管快插口;

4)充氮控制方式:采用時間自動控制或手動控制;

5)排氣閥:充氮氣的同時打開排氣閥,防止箱內高壓;

6)氮氣:氮氣源用戶自備。


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